NGL2025 단기강좌는 6월 23일(월)부터 6월 27일(금)까지 국립강릉원주대학교 강릉캠퍼스에서 대면 및 비대면 하이브리드 형식으로 개최됩니다. 올해도 수강생분들과 학계 및 산업계의 의견을 수렴하여, 2024년도 “Dry Etch Technology for Patterning”에 이어 2025년도에는 “Advanced Metrology Technology for Semiconductor Structure Measurements” 강좌가 새롭게 개설되었습니다.

첫째 날에는 결함 최소화 및 수율 향상 관점에서 가장 중요한 핵심 공정으로 부각되고 있는 MI 기술에 대해 체계적으로 살펴보실 수 있도록 “Optics for MI Engineers”와 “Advanced Metrology Technology for Semiconductor Structure Measurements” 강좌를 준비하였습니다. 둘째 날에는 최첨단 리소그래피 기술로 큰 주목을 받고 있는 “EUV Lithography”와 미세화 및 3D 공정의 도입에 따라 그 중요성이 증가하고 있는 “Dry Etch Technology for Patterning” 강좌가 진행됩니다. 셋째 날에는 메모리 반도체를 중심으로 미세화 대응을 위한 패터닝 전략을 상세히 소개하는 “Patterning Technology for Memory Devices”와 리소그래피 기술의 기초와 핵심을 파악할 수 있는 “Introduction to Optical Lithography” 강좌가 진행될 예정입니다. 넷째 날에는 “Introduction to Photomask Technology” 강좌와 반도체 소자의 역사 및 제조 공정에 대한 유익한 정보를 제공하는 “Introduction to Semiconductor Device Technology and Fabrication Process” 강좌가 마련되어 있습니다. 마지막 다섯째 날에는 포토레지스트를 포함한 다양한 패터닝 소재와 관련 공정에 대해 심도 있게 소개하는 “Lithographic Process and Its Materials” 및 “Working Mechanisms of Photoresists and Technology Trend” 강좌가 개최됩니다.

새롭게 보강된 “차세대 리소그래피 + 패터닝” 단기강좌가 반도체 기술에 대한 많은 분들의 궁금증을 해소하고, K-반도체 산업의 발전에 기여하여 우리나라가 종합 반도체 강국으로 도약하는 데 일조할 수 있기를 기대합니다. 각 분야별 국내외 최고의 전문가이신 연사분들, 그리고 열정적인 수강생 여러분과 함께 반도체 관련 교육 프로그램의 새로운 전통을 계속해서 만들어 나가겠습니다. 올해도 관련 기업인, 연구자, 학생, 그리고 관심 있는 일반인 여러분의 적극적인 참여를 부탁드립니다.

감사합니다.

2025 차세대 리소그래피 + 패터닝 단기교육강좌 조직위원장 안진호, 이병호
프로그램 위원장 이준호, 이명준